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高凡这话，要是让毕主任听见，只怕要指着他的鼻子大骂他信口开河了。

什么，光刻胶没有技术门槛，你说的是贴春联的浆糊吧？

光刻技术，被称为人类工业成果的集大成者。光刻机的制造固然要涉及到无数尖端制造工艺，光刻胶的研制与合成，同样需要化学与物理学的完美集成。

一种优秀的光刻胶，需要考虑到灵敏度、对比度、抗刻蚀性、分辨能力、曝光宽容度、工艺宽容度、热流动性、膨胀效应、黏度、保证期限等等，研究人员需要从理论上设计出符合条件的化合物，想办法进行合成，并在实践中不断优化配方，最后才有一个很小的概率能够开发出一种有效的光刻胶。

有时候，开发出来的光刻胶在某些方面表现出色，而另外一些方面仍存在问题，这时候还需要与集成电路制造商协调，调整光刻工艺以规避光刻胶中存在的缺陷。

总之，就是一句话，认为光刻胶没有技术门槛，是彻头彻尾的外行言论。

那么，高凡是外行吗？

显然不是。

他之所以敢说光刻胶没有太高的门槛，是因为他通晓20世纪80年代至21世纪前20年全球光刻胶技术的发展脉络，目前美国、日本、德国、英国的光刻胶厂商正在苦苦探索的技术诀窍，在他脑子里已经有了清晰的答案。

给高凡一张EUV光刻机的制造图纸，他没办法把设备造出来。因为制造这台设备，需要使用许多种精密机床，而这些机床甚至连西方国家也还没研制出来。

但光刻胶的合成并不需要复杂的设备，有了配方和工艺，他是完全能够把光刻胶制造出来的。

高凡穿越前的年代，正值西方国家对中国进行半导体技术的封锁。虽然中国人最终突破封锁，造出了“遥遥领先”，但那种被人讹诈而无法还手的憋屈，高凡是深深体会过的，而且即便是穿越到今天，高凡对此事依然耿耿于怀。

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