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李兴没有说大话，第二天他就拿着一份方案找到了郑南。

「郑厂长，我认为现在无法推进更高制程的主要原因，除了一个是光刻技巧外，还有更重要一点就是无法制作相应的光掩模。」

接触式光刻的原理就是用光这把刻刀透过光掩模这块遮光板，把想要的芯片图案1:1等比例投射在下面的硅片上。

也就是说下面芯片能做出多精细的制程，首先得取决于你能做出多少的光掩模，你不可能拿一张一毫米的光掩模做出10微米的芯片来，相反你要是能拿出一微米的光掩模，也未必不能做出一微米制程的芯片。

「光刻技巧这方面我不懂，所以给不出任何建议，但对于更精细光掩模的制作，我却有一个好想法。」

「我看过无线电厂的光掩模制作，都是直接拿刻刀在光掩模玻璃上刻画，这种技术注定无法往更精细推进，而我的想法是如果我们能用一台高清相机，先把芯片图纸拍下来，利用相机的缩放技术曝光在底片上，再想办法把底片做成光掩模，就能得到一张高精度制程光掩模了。」

郑南很有兴趣：「李主任你可以呀，这想法可太好了！」

的确，相机的工作原理就是将一幅大画面缩放储存在一张一寸大小的底片上，那么现在如果把芯片图纸利用这个原理缩放到底片上，确实可以得到一张微米级别的光掩模。

「不过这里有两个问题，一是缩放比例，多大的图纸经过相机多少倍缩放比例能得到一张合适的底片；二则是这种相机底片怎么做光掩模，材料都不一样吧。」郑南提出自己的担心。

李兴却大手一挥表示这都有办法解决，第一点他可以周密计算，同时也要多做实验。

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